此系列双温区管式炉主要用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜，温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的程序控制温度使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，采用宇电AI-518P/516P/716P,30段程序控温仪控温。系统推荐升温速率为≤ 20℃ /min，用K型热电偶测温，也可安装宇电AI-DCS监控软件或宇电AI-3170S和仪表通讯记录对数据进行实时采集监控，宇电AI-518P/716P/516P具有超温及断偶报警功能,并对加热温度进行温度曲线控制。如了解更详细方案可直接联系该项目经理15359289851王工
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